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Gravure en plasma dense fluorocarboné de matériaux organosiliciés à faible constante diélectrique (SiOCH, SiOCH poreux). Etude dun procédé de polarisation
Documents Gravure en plasma dense fluorocarboné de matériaux organosiliciés à faible constante diélectrique (SiOCH, SiOCH poreux). Etude dun procédé de polarisation
1/5 Journées Techniques Routes 2013 Nantes – 6 & 7 février 2013 Atelier R5G : le système SMARTVIA® et la technologie PEGASE appliqués au projet CCLEAR
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