SEM Mill 离子研磨抛光仪离子研磨抛光仪是一台高质量的 SEM 样品制备台式精密仪器，满足几乎所有应用材料的制备。

FISCHIUNE INSTRUMENTS

应用材料种类广泛

可利用离子研磨抛光仪 1060 进行加工的材料来种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面、集成电路焊点、芯片 BGA 切片、多层薄膜截面、颗粒纤维断面、复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的 SEM 样品。

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MODEL 1060离子研磨抛光仪

1060 是一台具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统，设计精巧，操作方便，性能稳定。1060 不断应用于制备高质量的 SEM 样品，满足苛刻的成像及分析要求，且满足几乎所有应用材料的制备。

• 两束独立可调的专利电磁聚焦离子束源

• 高能量离子束用来快速研磨，低能量离子束可提供更加温和的磨抛效果

• 可调的离子束直径

• 简便的研磨参数设置

• 离子束源气体独立自动控制

• 离子束入射角 0 到 +10 度持续可调

• 样品可摆动和旋转加工

• 体视显微镜直接观察和控制样品制备过程（选配）

• 高倍率显微镜成像视频系统直接观察和控制样品制备过程（选配）

• 标准版和专业版两个版本满足您不同层次的需求

离子研磨抛光仪

离子研磨抛光仪是通过物理科学技术来加

强样品表面特性。使用的是惰性气体中具

有代表性的氩气，通过加速电压使其电离

并撞击样品表面。在控制范围内，通过这

种动量转换的方式，氩离子去撞击样品表

面从而达到无应力损伤的 SEM 观察样品

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MODEL 1060 离子研磨抛光仪

先进的样品制备技术

如今 SEM 在快速研究分析高端材料结构和性能方面被认为是一种非常理想的方式。

1060 是一个优秀的样品制备工具，1060 离子研磨抛光仪为 SEM 呈现样品表面结构和分析样品特性提供了便利，是 SEM 样品制备完美的工具。

双离子束源

两束专利电磁聚焦离子束源可直接控制作用在样品表面的离子束斑点直径，操作者可以根据需求自己调节。两束离子束可以同时聚焦在样品表面，这样可以大大提高研磨抛光

速度。离子束体积小，最小化了气体的需求量，但离子束却能释放很大的能量范围。当操作高能量范围时，即

使在低角度的情况下，研磨速度也很快；在操作低能量范围时，样品表面材料会被慢慢移除，且不会造成人为缺陷。

1060 离子束源采用独特专利电磁聚焦设计，这样的设计可以让离子束斑点直径可调，从而离子撞击的时候是直接撞击样品，且只可以撞击样品，同时样品溅出的材料不会沉积

在样品夹具、样品仓或者样品表面上。

离子束源加速电压可以通过程序设定，从100 eV 到 6.0 keV 连续可调。快速研磨时可以选择 6.0 keV，最终样品抛光可以选择 100 eV。与此同时离子束流强度建立在 0.1-10µA 的范围内。

SEM 离子研磨抛光仪 1060 配置了法拉第杯用来测量离子束电流。

1060 离子束源在真空仓外可以通过校准片清楚地看到，而且在舱体外就可以进行束斑点调整。

工作气体自动控制

两个气流控制器为两束离子束源提供了独立管理控制的条件，气体控制器的算法规则也保证了通过设计研磨抛光参数可以将离子束稳定在一定范围内。

全集成干燥真空系统

全集成的干燥真空系统包括一个涡轮分子拖曳泵，并依靠一个多级压缩的隔膜泵。这种无油干泵保证了样品操作过程中理想的干净环境。

因为专利的电磁聚焦离子束需求的气源较少，70 lps 涡轮分子拖曳泵提供了接近 5x10-4 mbar 的真空环境，内置皮拉尼真空规测量并实时显示。

离子束源加速电压可以通过程序设定，从 100 eV到 6.0 keV 连续可调。

配置齐全的专业版 1060

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MODEL 1060 离子研磨抛光仪

样品装配和定位

SEM 离子研磨抛光仪 1060 可以容纳各种不同尺寸的样品，配置应用在如大块样品的离子研磨抛光制备、电子背散射衍射（EBSD）样品制备和半导体样品制备，当然也适用于传统的倾斜切割和截面切割研磨抛光。

根据样品的不同应用，一系列的样品夹具可以装配样品，装配夹具也更大化的优化了样

品的处理过程。

真空舱体和快速样品传递

SEM 离子研磨抛光仪的真空舱体保证了设备操作锁使高真空舱体与外部环境隔离，保证了样品转移过程中极佳的真空环境。小尺寸的样品舱在后期维护中清理更加简便。

冷台（选配）

电子研磨抛光仪可以选配冷台来高效率地降低碳氢化合物和水蒸气带来的干扰，这样保证了舱体真空的质量。冷台在外壳内配置了一个杜瓦瓶。

精准的入射角调节

虽然样品台位置固定，但离子束可以倾斜到所需抛光研磨的入射角度，倾斜入射角 0 到 +10 度持续可调。两束离子束入射角可单独调节。

适用于 1060 离子研磨抛光仪多种应用的夹具

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MODEL 1060 离子研磨抛光仪

当离子研磨抛光处在低入射角度 （<10度） 同时使用低能量的离子束的时候，最小化了照射和加热样品带来的样品损伤。因为离子研磨抛光可以均匀的打薄不同的材料，低角度的抛光研磨入射离子束对多层材料、复合材料样品制备效果更明显，尤其是 SEM 切片样品的制备。

可通过编程控制样品位置

可以实现平面内旋转和持续360度旋转。

对于不均匀和多层材料的样品截面制备，SEM 离子研磨抛光制样效果非常理想。样品夹具参数已经被写入样品台数据内，操作者可以重复定位和调节旋转速度。样品运动控制与离子研磨抛光对象优先选择有关，尤其是在截面样品中出现胶水粘结层或多层复合材料样品中的低原子序数材料。除此之外，样品可以被往复摆动，从而使界面和胶水粘结层与离子束的方向平行。摆动角度通

常可以从 ±40˚ 到 ±60˚。

自动终止

离子研磨抛光过程可以通过计时器自动终止。计时器预先设置时间来控制离子束源的电源，当时间结束时，离子束源的电源关闭，与此同时样品会保持在真空环境里直到操作者自己打开预真空锁来取出样品。

一个样品可以通过应用连续的研磨抛光步骤，使用同样的参数在延续的时间内连续的切片处理。

样品观察

遮板可以阻止溅射的材料干扰样品观察。样

品表面上方内置光源用以照明。

体视显微镜-选配SEM 离子研磨抛光仪可以通过一台体视显微镜做样品观察。由于体视显微镜的工作距离较大，在研磨的时候可以直接在原处观察；

高倍率的显微成像系统-选配SEM 离子研磨抛光仪可以配置一台高倍率的显微镜、数码相机以及视频显示器，通过抓取图像并将图像投影到显示器上，此种方法是制备特定位置样品的一个理想方式。

当使用高倍显微成像系统时，样品将被传送到预真空锁的真空环境中拍照，然后再返回原位置继续研磨抛光操作。

设备操作

SEM离子研磨抛光仪通过一个通用的控制平台来管理控制整个设备的操作。标准版操作仅包含初级水平的设备功能操作，专业版除了含有基本的设备之外，额外增加了全自动电脑控制系统，即可以通过电脑来设置、操作和记录不同种类的的操作参数。

标准版

标准版通过内嵌控制模块的触摸屏来控制操作。

首先手动安置离子束源到预期方向来建立研磨抛光入射角。通过触摸屏一键操作设置参数，参数包括离子束加速电压、样品位置（预真空锁或者研磨抛光时）、操作时间。操作者设置完成后，设备自动执行参数设定配方，持续显示实时研磨抛光状况。

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MODEL 1060 离子研磨抛光仪

专业版

专业版通过连接专用电脑来提供编程能力和扩展界面。因此在离子研磨抛光过程中最小化了操作者介入的需求。

界面程序设置参数包括：离子束加速电压、离子束入射角度、样品移动、样品位置和操作时间。

为了更高效地进行和无人值守操作，可以建立一些列的操作步骤。先标准方法快速研磨，然后低研磨速度去除杂质。研磨抛光配方可以很容易的存储和记忆恢复。

高端的功能包括结构化管理样品信息、图像抓取和保存、维护和导入文件、包括远程进

入和诊断。

软件允许安全进入设备控制，进入权限取决

于操作者对设备专业知识水平和设备操作的

需求。管理权限可以提供给具有售后资格的

工作人员。

触摸屏操作界面在 1060 标准版和专业版上均可使用。

操作者操控应用界面仅在 1060 专业版离子研磨抛光仪上使用。

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MODEL 1060 离子研磨抛光仪

在操作过程中，电脑显示器上会实时显示相关参数。当通过电脑控制设备时，触摸屏将显示暂停按钮，当需要暂停时，只需点一下暂停按钮设备操作将即刻暂停。

专业版本可以选配通过网络连接实现远程监控的功能，这样就可以实现远程监控和远程控制设备暂停。这样也实现了离子研磨抛光仪网络化。

应用

电子束研磨抛光仪是避免人为缺陷的理想工具，也提高了样品成像和分析的质量。

SEM 样品制备时常常需要金相研磨抛光。制样时即使再留意，常常一些不理想的形貌也会出现。随着 SEM 技术的快速发展，即使一个微不足道的损伤也会限制样品表面的彻底观察分析。通过惰性气体离子研磨抛光解决样品表面之前的损伤是一个非常理想的方法。这也是离子研磨的基本功能。

块状样品

事实上一些无机样品也受益于离子研磨抛光技术。当离子束低入射角度直接作用在样品上时，样品表面剩余的机械应力损伤，氧化层及残留物层均会被溅出，最终显现原始的形貌供 SEM 观察和分析。

EBSDEBSD 是一项非常有用的技术，可以让 SEM获取更多晶体信息，因为通过 SEM 获得的背散射电子信息能很好的反应材料晶体结构、晶向和晶体纹理。EBSD 对表面信息非常敏感，任何轻微的表面缺陷均能通过 EBSD 获得比较好的图案信息。因此通过离子研磨抛光来增强表面信息是非常有利的。

为了让 EBSD 提高到更好的检测水平，离子研磨抛光能被用来去除精细样品的材料。使用二维的方法无法得到这一系列的技术产量切片技术。

半导体截面观察在半导体行业的很多案例中，离子研磨抛光可以让失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者机械研磨样品会产生样品表面损伤，这些问题可以通过离子研磨抛光来解决，这也得力于多样化的样品夹具来优化这些操作过程。

最小化的维护

离子束源溅射的样品表面材料相对而言是非常小量的，这样即最小化了样品杂质的产生，也最小化了零件维护。全自动的遮板阻挡了溅射材料在观察区形成。所有系统零件的日常清理和维护均非常简便。当系统连接网络后，可以实现进入远程诊断的功能。

离子研磨前,使用飞纳电镜观察木材孔洞里面的磨料有大量残余

离子研磨后，使用飞纳电镜观察胶层清晰可见，木材孔的边缘没有其他

纤维质拉伸

MODEL 1060 离子研磨抛光仪

标准版和专业版对比

功能 标准版 专业版

触摸屏控制

电脑控制

单步处方方案

多步处方方案

处方存储和记忆恢复

实时研磨状态显示

样品自动高度感应

手动研磨角度调整

自动研磨角度调整

加速电压单独控制 *

无人值守操作

图像抓取 *

维护和导入文件

远程控制和过程监控 *

远程诊断

选配*

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标准版 专业版

Model 1060 离子研磨抛光仪 技术参数

离子束源 两束电磁聚焦离子束源

加速电压范围： 100 eV - 6.0 keV，连续可调

离子束流密度高达 10 mA/cm2

可选择单束或者双束离子源工作

独立控制两束离子束源加速电压 （仅专业版）

样品台 离子束入射角 0˚ 到 +10˚最大样品尺寸：直径 25mm，高度 15mm

样品高度自动感应

360˚ 样品旋转

样品往复摇摆，从 ±40˚ 到 ±60˚

真空系统 两级真空系统：无油干泵和涡轮分子

泵皮拉尼型真空计感应控制真空

工作气体 99.999% 纯度的氩气

每离子束流速约 0.2 sccm，名义上所需压力为 15psi

采用自动气体流量控制技术，实现离子源气流的精

密流量控制，含两个流量计

气压源

样品照明

气动阀驱动氩气,液氮, 或者干燥空气；所需压力要求名

义上 60 psi

自动终止 计时器设定自动加工终止

MODEL 1060离子研磨抛光仪

具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统，设计精巧，操作方便，性能稳定。可用于制备各种材料的高质量扫描电镜样品，满足苛刻的成像及分析所要求的样品制备。

用户可选的反射照明

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Model 1060 离子研磨抛光仪 技术参数

用户界面 标准版

内置触摸屏，包含基本设备功能模块

专业版

• 内置触摸屏，包含基本设备功能模块

• 基于电脑，加工流程可通过参数编程并实时显示操

作状态

• 操作灯光指示器（选配）

辅助光学显微镜 可选配一个 7-45 倍的体视显微放在与真空系统内用于直接

观察样品；或者选配一个具有 2,000 倍的显微成像系统，用

于定点成像并显示在电脑显示屏上

尺寸 标准型

69cm*38cm*74cm*51cm （宽*底端到设备外壳高*底端到显

微镜高*深）

专业型

107cm*38cm*74cm*51cm （宽-含电脑显示器*底端到设备外

壳高*底端到显微镜高*深）

重量 73 kg

电源 100/120/220/240 VAC，50/60 Hz，720 W

质保期 一年

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复纳科学仪器（上海）有限公司

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