AXE 7 - Caractérisation des matériaux Microanalyse et analyse de surface XPS pour la micro / opto-électronique, la chimie des surfaces et des interfaces OBJECTIFS - Avoir les connaissances nécessaires sur l’XPS (spectroscopie de photoélectrons X) associé à l’X-AES (spectroscopie Auger) pour la conception, l’expertise et la fiabilité de composants en micro / opto-électronique - Connaître les capacités de l’XPS pour l’analyse chimique des surfaces et interfaces - Être capable d'exploiter quantitativement un spectre XPS - Savoir intégrer utilement l’XPS dans les parcours d’analyse associés aux caractérisations des composants aux divers stades de leur développement PUBLIC Ingénieurs et chercheurs impliqués dans le domaine de la conception, du développement de composants pour la micro / opto-électronique. Afin d’adapter le contenu du stage aux attentes des stagiaires, un questionnaire téléchargeable sur notre site internet devra être complété et renvoyé au moment de l’inscription. Prérequis : connaissances en physique et chimie du solide ; connaissances en atomistique de base (Bac + 3 minimum) PROGRAMME 1 er jour - Introduction à la spectroscopie de photoélectrons et électrons Auger excités par rayons X - Détermination de la composition atomique, exploitation du déplacement chimique, exploitation de la distribution angulaire - Exploitation d’un spectre général puis de spectres pris à haute résolution - Prise en main d’un logiciel d’exploitation : travaux dirigés sur des spectres en rapport avec les surfaces de la micro ou de l’opto-électronique 2 ème et 3 ème jours - Travail spécifique sur les filières matériaux pour la micro / opto-électronique, l’XPS sur Si, sur Ge, sur SiGe, sur les III-Vs (binaires, ternaires, quaternaires) et sur les II-VIs (points communs et spécificités) - Profilage XPS et la question clé de l’accès à des interfaces enterrées - Approche quantitative sur la réelle réactivité de ces surfaces, sur les stratégies d’ingénierie et sur l’analyse de la contamination carbonée Il est proposé aux stagiaires d’apporter un échantillon (sous réserve de l'accord préalable du responsable) dont le spectre sera effectué pendant la formation (définition de la procédure, choix des fenêtres, etc.). Les supports d’analyse seront fournis par la bibliothèque de spectres du CEFS2. Les stagiaires auront également la possibilité d’apporter leur propre jeu de données qui sera analysé à des fins pédagogiques sous réserve de l’accord préalable du responsable de la formation. EQUIPEMENT Les stagiaires auront accès au centre CEFS2 (3 spectros XPS, 1 spectro ARXPS) ; deux d’entre eux seront immobilisés pour le stage et les manipulations en temps réel qui y seront dispensées. Les supports informatiques et logiciels seront fournis pendant le stage. INTERVENANTS A. Etcheberry, D. Aureau, S. Béchu (chercheurs), M. Bouttemy et M. Fregnaux (ingénieurs) Environnement scientifique et technique de la formation Institut Lavoisier de Versailles http://www.ilv.uvsq.fr RESPONSABLE Arnaud ETCHEBERRY Directeur de recherche UMR 8180 LIEU VERSAILLES (78) ORGANISATION 3 jours De 5 à 12 stagiaires MÉTHODES PÉDAGOGIQUES - Alternance de cours (50 %) et de travaux dirigés (50 %) - TP encadrés par 1 intervenant pour 5 stagiaires maximum Tout au long de la formation, des exercices corrigés permettront au stagiaire d’évaluer son acquisition des connaissances. COÛT PÉDAGOGIQUE 1500 Euros À L'ISSUE DE LA FORMATION Evaluation de la formation par les stagiaires Envoi d’une attestation de formation DATE DU STAGE Réf. 22 130 : du mercredi 16/11/22 à 09:00 au vendredi 18/11/22 à 17:00 cnrs formation entreprises - Tél. : +33 (0)1 69 82 44 55 - Email : [email protected] - http://cnrsformation.cnrs.fr Powered by TCPDF (www.tcpdf.org)

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AXE 7 - Caractérisation des matériaux Microanalyse et analyse de surface

XPS pour la micro / opto-électronique, la chimie dessurfaces et des interfaces

OBJECTIFS

- Avoir les connaissances nécessaires sur l’XPS (spectroscopie de photoélectrons X) associé à l’X-AES(spectroscopie Auger) pour la conception, l’expertise et la fiabilité de composants en micro /opto-électronique- Connaître les capacités de l’XPS pour l’analyse chimique des surfaces et interfaces- Être capable d'exploiter quantitativement un spectre XPS- Savoir intégrer utilement l’XPS dans les parcours d’analyse associés aux caractérisations des composantsaux divers stades de leur développement

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Ingénieurs et chercheurs impliqués dans le domaine de la conception, du développement de composantspour la micro / opto-électronique. Afin d’adapter le contenu du stage aux attentes des stagiaires, unquestionnaire téléchargeable sur notre site internet devra être complété et renvoyé au moment del’inscription.Prérequis : connaissances en physique et chimie du solide ; connaissances en atomistique de base (Bac +3 minimum)

PROGRAMME

1er jour- Introduction à la spectroscopie de photoélectrons et électrons Auger excités par rayons X- Détermination de la composition atomique, exploitation du déplacement chimique, exploitation de ladistribution angulaire- Exploitation d’un spectre général puis de spectres pris à haute résolution- Prise en main d’un logiciel d’exploitation : travaux dirigés sur des spectres en rapport avec les surfaces dela micro ou de l’opto-électronique2ème et 3ème jours- Travail spécifique sur les filières matériaux pour la micro / opto-électronique, l’XPS sur Si, sur Ge, surSiGe, sur les III-Vs (binaires, ternaires, quaternaires) et sur les II-VIs (points communs et spécificités)- Profilage XPS et la question clé de l’accès à des interfaces enterrées- Approche quantitative sur la réelle réactivité de ces surfaces, sur les stratégies d’ingénierie et sur l’analysede la contamination carbonée

Il est proposé aux stagiaires d’apporter un échantillon (sous réserve de l'accord préalable duresponsable) dont le spectre sera effectué pendant la formation (définition de la procédure, choix desfenêtres, etc.). Les supports d’analyse seront fournis par la bibliothèque de spectres du CEFS2. Lesstagiaires auront également la possibilité d’apporter leur propre jeu de données qui sera analysé à desfins pédagogiques sous réserve de l’accord préalable du responsable de la formation.

EQUIPEMENT

Les stagiaires auront accès au centre CEFS2 (3 spectros XPS, 1 spectro ARXPS) ; deux d’entre eux serontimmobilisés pour le stage et les manipulations en temps réel qui y seront dispensées. Les supportsinformatiques et logiciels seront fournis pendant le stage.

INTERVENANTS

A. Etcheberry, D. Aureau, S. Béchu (chercheurs), M. Bouttemy et M. Fregnaux (ingénieurs)

Environnement scientifiqueet technique de la formation

Institut Lavoisier de Versailleshttp://www.ilv.uvsq.fr

RESPONSABLEArnaud ETCHEBERRYDirecteur de rechercheUMR 8180

LIEUVERSAILLES (78)

ORGANISATION3 joursDe 5 à 12 stagiaires

MÉTHODES PÉDAGOGIQUES- Alternance de cours (50 %) et de travauxdirigés (50 %)- TP encadrés par 1 intervenant pour 5stagiaires maximumTout au long de la formation, desexercices corrigés permettront au stagiaired’évaluer son acquisition desconnaissances.

COÛT PÉDAGOGIQUE1500 Euros

À L'ISSUE DE LA FORMATIONEvaluation de la formation par lesstagiairesEnvoi d’une attestation de formation

DATE DU STAGERéf. 22 130 : du mercredi 16/11/22 à09:00 au vendredi 18/11/22 à 17:00

cnrs formation entreprises - Tél. : +33 (0)1 69 82 44 55 - Email : [email protected] - http://cnrsformation.cnrs.fr

http://www.tcpdf.org