OPTICAL METROLOGY & POLARIMETRYMicro and Nano-Technology-Scientific Consulting by SERMA Technologies

15.04.2023 F.Ferrieu

Micro and Nano-Technology-Scientific Consulting and Expertise OMP _S.I.R.E.T 52230889900015 1

Expertise/ consultant développement & veille technologique sur les techniques de Metrologie Optique et applications utilisant la polarimétrie

Grace à notre expérience nous pouvons assurer l’interface avec des

laboratoires de mesures sur les problématiques Industrielles en

proposant une caractérisation optique adéquate (couches minces,

nouveaux matériaux, nanotechnologies off line et in line).

Ces Travaux bénéficient ainsi de l’Environnement de Recherche du LETI

-un potentiel de métrologie unique avec MINATEC et SERMA : -

compléter les analyses (TEM, SIMS, ..) et les autres moyens des acteurs

de et donc un accés à des Instruments d’Optique de

Métrologie industrielles et interface avec les laboratoires développant les

dernier instruments d’optique innovants.

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• Materiaux nouveaux cristallins ou amorphes• Mesures in situ in line ou off line• Multi couches et Nanotechnologies• Etudes de surface par Polarimetrie • Adsorption de Surface et porosimetrie

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OPTICAL METROLOGY & POLARIMETRY Expertise with SERMA Technologies at Minatec : Ellipsometrie Spectrocopique visible (SE) ou ultraviolet (VUVSE) et infrarouge: Exemples de domaines d’application

Analyse et montage optimisation de systèmes in situOff line et in line . Analyse matériaux : propriétés physique et (ou) contrôle composition C, O dans silicium

( spectroscopie ellipso Infra rouge ) epi sur substrat dopé mesure epaisseur- couches PZT sur Platine réflectivité infra rouge

Analyse et Optimisation Montage métrologie intégrée sur de systemes in situ Off line et in line composition alliages III V type AsGa composés binaires ou ternaires

SiGe, SiGeC, SiC bulk et couches minces Analyse matériaux en couches minces type empilements structure CMOS 32nm

filtre optiques sur substrats transparents , caractérisation nouveaux matériaux résines lithographie silicium poreux, AlN, ect.. Matériaux anisotropes LiNbO3, cristaux liquides ,conducteurs : ITO Graphène, Diélectriques et low k .

Etats de Surface oxyde natif sur substrat, diffusion de la lumière rugosité Analyse des verres, composés terres rares Hf, La,Y (VUV SE ) Porosimetrie Adsorption de surface (rugosité LER) et bulk ( taille des pores) Couches implantées et recuit laser pulsé ( profils de défauts). Polarimetrie: Structure Photoniques et Lithographie Scattérometrie modélisation et

mesures pour optimisation de structures.• .

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Expertise, Apport d’expérience et Orientation sur les possibilités de réalisation de mesures visant à faciliter la mise en œuvre d’un projet industriel .

Mais aussiAccompagnement dans la sélection de propositions

effectuées par les équipementiers dans le cadre de la recherche d’instruments les mieux adaptés aux besoins de métrologie.

Formation à l’utilisation et à l’optimisation des données des instruments de mesure.

Support montage des programmes Européens ou Régionaux sur la faisabilité et la pertinence d’un projet scientifique

Et en parallèle Enseignement & Formation : séminaires d’application ou

généraux dans l’instrumentation Optique et ses applications.

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Notre Expérience

Plus de 50 publications en Ellipsometrie et Polarimetrie.

Reviewer dans différents Journaux scientifiques TSF1, JOSA2 et EJAP3.

Participation différents projets industriels dans le domaine de l’instrumentation (premiers ellipsometres spectroscopiques visible, infrarouge et extrême Ultraviolet en France )

Connaissance et interactions en NDA avec différents groupes au niveau mondial en Ellipsometrie, Reflectometrie et Polarimetrie : KLA Tencor , J. Woollam, Horiba Scientific et, SopraLab

1Thin Solid Films,2Journal of The Optical Society of America,3European Journal of Applied Physics

http://www.serma.com http://www.optic-mueller.com/siteweb2010